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Titlebook: Elektronenmikroskopische Untersuchungs- und Pr?parationsmethoden; Ludwig Reimer Book 19591st edition Springer-Verlag Berlin Heidelberg 195

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樓主: Lincoln
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發(fā)表于 2025-3-28 17:14:15 | 只看該作者
http://image.papertrans.cn/e/image/306997.jpg
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發(fā)表于 2025-3-28 19:06:56 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-28 23:30:18 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-29 06:29:51 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-29 08:40:06 | 只看該作者
Grundlagen der Hochvakuum- und AufdampftechnikFür die elektronenmikroskopische Pr?parationstechnik — bei der Herstellung von Tr?gerfolien und Schr?gbeschattungen — spielt die Aufdampfmethode eine gro?e Rolle. Es soll daher in diesem Paragraph der prinzipielle Aufbau von Verdampfungsapparaturen beschrieben und insbesondere auf die Wahl geeigneter Verdampfungsquellen eingegangen werden.
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發(fā)表于 2025-3-29 14:15:24 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-29 16:27:25 | 只看該作者
Elektronenmikroskopische Untersuchungs- und Pr?parationsmethoden978-3-662-01452-3
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發(fā)表于 2025-3-29 21:44:26 | 只看該作者
Verwaltungsnachrichten für das Jahr 1891/92ine quantitative Auswertung elektronenmikroskopischer Bilder erforderlich sind. Bei all diesen Betrachtungen wird stets vorausgesetzt, da? sich die Ausdehnungen der Objekteinzelheiten mit gleicher Dicke und physikalischen Eigenschaften über gr??ere Bereiche im Vergleich zum Aufl?sungsverm?gen erstre
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發(fā)表于 2025-3-30 01:43:06 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-30 05:15:22 | 只看該作者
https://doi.org/10.1007/978-3-476-99339-7nd, verwendet man oft weniger gegen Strahlensch?den empfindliche ZnO-Leuchtschirme, die eine um einen Faktor 10 geringere Lichtausbeute besitzen. Dies ist aber wiederum für den Verwendungszweck als Zwischenleuchtschirm zu begrü?en, damit das Zwischenbild nicht überstrahlt wird.
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