書(shū)目名稱 | Silizium-Halbleitertechnologie |
副標(biāo)題 | Grundlagen mikroelek |
編輯 | Ulrich Hilleringmann |
視頻video | http://file.papertrans.cn/868/867363/867363.mp4 |
概述 | Umfassende Darstellung der Fertigungsverfahren bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltungen.Fertigungsverfahren und Technologien in der Mikroelektronik.Aktuelle Verfahren der mikroelektronische |
圖書(shū)封面 |  |
描述 | Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgr??en bis zu wenigen Nanometern gleichm??ig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, ?tzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erl?utert.. |
出版日期 | Textbook 20197th edition |
關(guān)鍵詞 | Elektronik; Halbleitertechnik; Chip; Bipolar-Technologie; CMOS; Silizium; Elektrotechnik; bipolar; Bipolarsc |
版次 | 7 |
doi | https://doi.org/10.1007/978-3-658-23444-7 |
isbn_ebook | 978-3-658-23444-7 |
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