Titlebook: Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr; Walter Olbrich Book 1994 Springer-Ve

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書目名稱Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr影響因子(影響力)




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書目名稱Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr網絡公開度




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書目名稱Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr被引頻次




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書目名稱Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr年度引用




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書目名稱Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr讀者反饋




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類似思想

Entwicklungsbedarf in der PVD-Technologie,er St?hle, die thermisch nur niedrig belastet werden dürfen, beschichtet werden, so ist eine wesentliche Aufgabe in der Proze?-und Schichtentwicklung die Ausführung der Beschichtung bei niederen Temperaturen (< 200°C). Daneben sind Fragen der gleichm??igen 3D-Beschichtung und des übertragens der Pro

conspicuous

Aufgabenstellung,in einem PVD-Proze? durch einen energieerh?hten Ionenbeschu? an der Substratoberfl?che zu unterstützen. Dabei soll die Ener-gie der auftreffenden Teilchen weitgehend unabh?ngig von anderen Proze?gr??en und Proze?-parametern eingestellt werden k?nnen. Der Beschu? soll richtungsunabh?ngig und allseiti

鐵塔等

,Wirkungen der überlagert gepulsten Biasspannung auf die Proze?bedingungen,abh?ngig gemacht. Dieser Parame-ter E. ist direkt proportional zur durchschnittlichen Energie und zur Stromdichte der auftref-fenden Ionen bzw. zur Biasspannung U. und zur Biasstromst?rke I.:.Beschichtungsversuche mit der überlagert gepulsten Biasspannung sollen zeigen, da? die zur Ausbildung der Zo

安心地散步

Monotonous

Monotonous

Palpitation

Ausblick,Schritt zu weiteren Anwen-dungen darstellen. Es wird erwartet, da? diese Technologie insbesondere bei Metallisierungen Verbesserungen der Schichtsysteme schaffen und neue Einsatzm?glichkeiten zulassen wird. Das Verfahren wird momentan in mehreren Unternehmen erfolgreich getestet.

口味

拖債

Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr978-3-642-47892-5