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Titlebook: Einflu? von Getterprozessen auf die Eigenschaften von ionenimplantierten integrierten Fotodioden; Bernd H?fflinger,Günter Zimmer,Heinz Ger

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樓主
發(fā)表于 2025-3-21 18:15:37 | 只看該作者 |倒序瀏覽 |閱讀模式
書目名稱Einflu? von Getterprozessen auf die Eigenschaften von ionenimplantierten integrierten Fotodioden
編輯Bernd H?fflinger,Günter Zimmer,Heinz Gerd Graf
視頻videohttp://file.papertrans.cn/304/303753/303753.mp4
叢書名稱Forschungsberichte des Landes Nordrhein-Westfalen
圖書封面Titlebook: Einflu? von Getterprozessen auf die Eigenschaften von ionenimplantierten integrierten Fotodioden;  Bernd H?fflinger,Günter Zimmer,Heinz Ger
出版日期Book 1982
關(guān)鍵詞CMOS; Dioden; Fassung; Fotodiode; Kanal; Lebensdauer; Messung; Messverfahren; Optimierung; Profil; Reibung; Set
版次1
doihttps://doi.org/10.1007/978-3-322-87706-2
isbn_softcover978-3-531-03133-0
isbn_ebook978-3-322-87706-2
copyrightWestdeutscher Verlag GmbH, Opladen 1982
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書目名稱Einflu? von Getterprozessen auf die Eigenschaften von ionenimplantierten integrierten Fotodioden影響因子(影響力)




書目名稱Einflu? von Getterprozessen auf die Eigenschaften von ionenimplantierten integrierten Fotodioden影響因子(影響力)學(xué)科排名




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書目名稱Einflu? von Getterprozessen auf die Eigenschaften von ionenimplantierten integrierten Fotodioden讀者反饋




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沙發(fā)
發(fā)表于 2025-3-21 23:40:11 | 只看該作者
板凳
發(fā)表于 2025-3-22 00:36:39 | 只看該作者
Digitalisierung der Finanzindustrien erforderlich, um die durch die Oxidladungen des Dickoxids an der Substratoberfl?che entstehenden leitenden Inversionsschichten zu vermeiden. Ein Gitter von diffundierten Kontakten reduziert den Serienwiderstand der implantierten Schicht und erm?glicht kurze Schaltzeiten.
地板
發(fā)表于 2025-3-22 06:43:05 | 只看該作者
Beschreibung der Teststrukturen,n erforderlich, um die durch die Oxidladungen des Dickoxids an der Substratoberfl?che entstehenden leitenden Inversionsschichten zu vermeiden. Ein Gitter von diffundierten Kontakten reduziert den Serienwiderstand der implantierten Schicht und erm?glicht kurze Schaltzeiten.
5#
發(fā)表于 2025-3-22 11:33:57 | 只看該作者
6#
發(fā)表于 2025-3-22 14:41:55 | 只看該作者
7#
發(fā)表于 2025-3-22 17:07:51 | 只看該作者
https://doi.org/10.1007/978-3-662-65858-1 ultraviolettes Licht. Durch das Fotodiodenlayout mit Guard—Ring, Feldimplantation bei n-Kanal- und CMOS-Proze? und einer den Guard-Ring überlappenden Metallisierung konnten geringe Sperrstr?me und Sperrspannungen bis zu 130 V erreicht werden.
8#
發(fā)表于 2025-3-22 21:29:12 | 只看該作者
9#
發(fā)表于 2025-3-23 04:12:16 | 只看該作者
Lea Henkel,Annika Krug,Boris ZimmermannDer Einflu? des die lichtempfindliche Fl?che der Fotodiode, also den Bereich des flachen pn-übergangs, abdeckenden Oxids ist begründet durch dessen Wirkung als Antireflexionsschicht und durch die durch Vermeidung der durch hohe Oberfl?chenrekombinationsraten unempfindlichen Oberfl?chenschicht mittels Passivierung der Oberfl?chenzust?nde.
10#
發(fā)表于 2025-3-23 09:10:06 | 只看該作者
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