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SCIE期刊TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS 2024/2025影響因子:0.699 (TOPOL APPL) (0166-8641). (MATHEMATICS)(數(shù)學(xué))Science Citation Ind

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發(fā)表于 2025-3-21 17:11:03 | 只看該作者 |倒序瀏覽 |閱讀模式
期刊全稱TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS
期刊簡稱TOPOL APPL
影響因子20240.699
視頻videohttp://file.papertrans.cn/30/29606/29606.mp4
ISSN0166-8641
eISSN1879-3207
出版商ELSEVIER
發(fā)行地址RADARWEG 29, AMSTERDAM, Netherlands, 1043 NX
學(xué)科分類1.Science Citation Index Expanded (SCIE)--Mathematics, Applied | Mathematics; 2.Essential Science Indicators--Mathematics;
出版語言English
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SCIE(SCI)期刊TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS(20 21 REV HIST)影響因子


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發(fā)表于 2025-3-21 20:34:29 | 只看該作者
板凳
發(fā)表于 2025-3-22 04:14:01 | 只看該作者
Submitted on: 15 August 2009. Revised on: 24 September 2009. Accepted on: 01 October 2009. TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS
地板
發(fā)表于 2025-3-22 05:28:30 | 只看該作者
5#
發(fā)表于 2025-3-22 09:32:30 | 只看該作者
Submitted on: 04 August 1998. Revised on: 27 August 1998. Accepted on: 05 September 1998. TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS---ELSEVIER
6#
發(fā)表于 2025-3-22 15:36:29 | 只看該作者
Submitted on: 22 December 2021. Revised on: 04 January 2022. Accepted on: 12 January 2022. TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS
7#
發(fā)表于 2025-3-22 18:43:52 | 只看該作者
Submitted on: 01 June 2005. Revised on: 09 June 2005. Accepted on: 06 July 2005. TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS---ELSEVIER
8#
發(fā)表于 2025-3-23 00:32:44 | 只看該作者
9#
發(fā)表于 2025-3-23 04:51:06 | 只看該作者
Submitted on: 26 May 2002. Revised on: 07 July 2002. Accepted on: 30 July 2002. TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS---ELSEVIER
10#
發(fā)表于 2025-3-23 05:55:42 | 只看該作者
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