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SCIE期刊PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING 2024/2025影響因子:2.613 (PLASMA CHEM PLASMA P) (0272-4324). (PHYSICS, FLUIDS &

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發(fā)表于 2025-3-21 18:38:42 | 只看該作者 |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
期刊全稱PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
期刊簡稱PLASMA CHEM PLASMA P
影響因子20242.613
視頻videohttp://file.papertrans.cn/25/24872/24872.mp4
ISSN0272-4324
eISSN1572-8986
出版商SPRINGER
發(fā)行地址ONE NEW YORK PLAZA, SUITE 4600 , NEW YORK, United States, NY, 10004
學(xué)科分類1.Science Citation Index Expanded (SCIE)--Engineering, Chemical | Physics, Applied | Physics, Fluids & Plasmas; 2.Current Contents Electronics & Telecommunications Collection--Chemistry & Physics, Pure & Applied; 3.Current Contents Engineering, Computing & Technology--Chemical Engineering; 4.Current Contents Physical, Chemical & Earth Sciences--Physical Chemistry/Chemical Physics; 5.Essential Science Indicators--Chemistry;
出版語言English
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SCIE(SCI)期刊PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING(20 21 REV HIST)影響因子


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SCIE(SCI)期刊PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING(20 21 REV HIST)五年累積影響因子


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沙發(fā)
發(fā)表于 2025-3-21 23:28:23 | 只看該作者
板凳
發(fā)表于 2025-3-22 00:25:52 | 只看該作者
Submitted on: 07 November 2006. Revised on: 01 December 2006. Accepted on: 15 December 2006. PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
地板
發(fā)表于 2025-3-22 08:08:11 | 只看該作者
5#
發(fā)表于 2025-3-22 10:36:17 | 只看該作者
6#
發(fā)表于 2025-3-22 13:27:08 | 只看該作者
Submitted on: 29 January 1998. Revised on: 10 March 1998. Accepted on: 05 April 1998. PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
7#
發(fā)表于 2025-3-22 17:37:38 | 只看該作者
8#
發(fā)表于 2025-3-22 22:32:01 | 只看該作者
9#
發(fā)表于 2025-3-23 03:46:41 | 只看該作者
10#
發(fā)表于 2025-3-23 08:02:44 | 只看該作者
Submitted on: 12 August 2005. Revised on: 05 September 2005. Accepted on: 16 September 2005. PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
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