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SCIE期刊INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS 2024/2025影響因子:1.196 (INT J APPL ELECTROM) (1383-5

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樓主: CK828
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發(fā)表于 2025-3-26 22:16:31 | 只看該作者
Submitted on: 15 June 2004. Revised on: 27 July 2004. Accepted on: 26 August 2004. ___________________INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
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發(fā)表于 2025-3-27 03:04:00 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-27 09:03:22 | 只看該作者
Submitted on: 07 June 2020. Revised on: 06 September 2020. Accepted on: 24 September 2020. ___________________INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
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發(fā)表于 2025-3-27 12:17:13 | 只看該作者
Submitted on: 06 August 2015. Revised on: 19 October 2015. Accepted on: 31 October 2015. ___________________INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
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發(fā)表于 2025-3-27 17:24:41 | 只看該作者
Submitted on: 24 October 1999. Revised on: 01 February 2000. Accepted on: 06 March 2000. ___________________INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
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發(fā)表于 2025-3-27 20:44:57 | 只看該作者
Submitted on: 16 December 1998. Revised on: 19 February 1999. Accepted on: 17 March 1999. ___________________INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
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