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SCIE期刊INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS 2024/2025影響因子:1.196 (INT J APPL ELECTROM) (1383-5

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發(fā)表于 2025-3-21 17:39:17 | 只看該作者 |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
期刊全稱INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
期刊簡(jiǎn)稱INT J APPL ELECTROM
影響因子20241.196
視頻videohttp://file.papertrans.cn/14/13007/13007.mp4
ISSN1383-5416
eISSN1875-8800
出版商IOS PRESS
發(fā)行地址NIEUWE HEMWEG 6B, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1013 BG
學(xué)科分類1.Science Citation Index Expanded (SCIE)--Engineering, Electrical & Electronic | Mechanics | Physics, Applied; 2.Essential Science Indicators--Engineering;
出版語言English
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SCIE(SCI)期刊INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS(20 21 REV HIST)影響因子


SCIE(SCI)期刊INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS(INT J APPL ELECTROM)影響因子@(力學(xué))學(xué)科排名


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SCIE(SCI)期刊INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS(20 21 REV HIST)即時(shí)影響因子


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SCIE(SCI)期刊INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS(20 21 REV HIST)五年累積影響因子


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發(fā)表于 2025-3-21 20:32:29 | 只看該作者
板凳
發(fā)表于 2025-3-22 02:16:45 | 只看該作者
地板
發(fā)表于 2025-3-22 07:37:00 | 只看該作者
5#
發(fā)表于 2025-3-22 11:11:28 | 只看該作者
Submitted on: 20 June 2005. Revised on: 13 October 2005. Accepted on: 04 December 2005. ___________________INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
6#
發(fā)表于 2025-3-22 14:01:36 | 只看該作者
7#
發(fā)表于 2025-3-22 19:48:47 | 只看該作者
Submitted on: 22 April 2009. Revised on: 20 May 2009. Accepted on: 15 July 2009. ___________________INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
8#
發(fā)表于 2025-3-23 00:24:01 | 只看該作者
9#
發(fā)表于 2025-3-23 04:23:06 | 只看該作者
Submitted on: 14 June 2015. Revised on: 17 July 2015. Accepted on: 14 September 2015. ___________________INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
10#
發(fā)表于 2025-3-23 07:09:02 | 只看該作者
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