標題: Titlebook: Oberfl?chen- und Dünnschicht-Technologie; Teil I: Beschichtung René A. Haefer Book 1987 Springer-Verlag Berlin, Heidelberg 1987 Auftragschw [打印本頁] 作者: Interjection 時間: 2025-3-21 17:38
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作者: Encephalitis 時間: 2025-3-21 22:44 作者: demote 時間: 2025-3-22 03:15
René A. Haefernwurfger?t, das . . in Rom durch Hinzufügung einer Sammellinse verbesserte, wodurch er die erste eigentliche Projektionsvorrichtung schuf. Er beschrieb sie 1646 in seiner Ars magna. . malte die Bilder auf den Beleuchtungsspiegel; er wandte noch nicht auswechselbare Glasbilder an. Weitere Verbesserun作者: 拱形大橋 時間: 2025-3-22 08:08
René A. Haefernwurfger?t, das . . in Rom durch Hinzufügung einer Sammellinse verbesserte, wodurch er die erste eigentliche Projektionsvorrichtung schuf. Er beschrieb sie 1646 in seiner Ars magna. . malte die Bilder auf den Beleuchtungsspiegel; er wandte noch nicht auswechselbare Glasbilder an. Weitere Verbesserun作者: ENACT 時間: 2025-3-22 11:46
René A. Haefernwurfger?t, das . . in Rom durch Hinzufügung einer Sammellinse verbesserte, wodurch er die erste eigentliche Projektionsvorrichtung schuf. Er beschrieb sie 1646 in seiner Ars magna. . malte die Bilder auf den Beleuchtungsspiegel; er wandte noch nicht auswechselbare Glasbilder an. Weitere Verbesserun作者: 他很靈活 時間: 2025-3-22 16:48
René A. Haefer L?nder. So betrug das pro-Kopf BIP des ?rmsten Landes der Welt (Zaire) Anfang der 90er Jahre gerade einmal zwei Prozent von jenem der USA.. Warum manche L?nder reich geworden (bzw. zu reichen L?ndern gewachsen), andere jedoch arm geblieben sind, wird von vielen ?konomen als eine der fundamentalsten作者: Notify 時間: 2025-3-22 19:23
René A. Haefer L?nder. So betrug das pro-Kopf BIP des ?rmsten Landes der Welt (Zaire) Anfang der 90er Jahre gerade einmal zwei Prozent von jenem der USA.. Warum manche L?nder reich geworden (bzw. zu reichen L?ndern gewachsen), andere jedoch arm geblieben sind, wird von vielen ?konomen als eine der fundamentalsten作者: BET 時間: 2025-3-23 01:08 作者: Vulnerable 時間: 2025-3-23 04:07 作者: SOBER 時間: 2025-3-23 08:56 作者: 柱廊 時間: 2025-3-23 11:08 作者: 吞吞吐吐 時間: 2025-3-23 17:01 作者: jabber 時間: 2025-3-23 18:36
René A. Haefernatürlichen Ressourcen.Steigender Wohlstand verlangsamt Bev?Zwischen der Wirtschaftsleistung pro Kopf und wichtigen gesellschaftlichen Rahmenbedingungen wie z.B. Energiebedarf, Umweltbelastung, Bev?lkerungs- und Wirtschaftswachstum, Mobilit?t, Ausbildung, Lebenserwartung und Gewaltbereitschaft beste作者: Proponent 時間: 2025-3-24 01:10 作者: 彎彎曲曲 時間: 2025-3-24 03:54 作者: 同來核對 時間: 2025-3-24 10:25
,Plasmen in der Oberfl?chentechnologie,kung befinden. Plasmen in Gasen und D?mpfen bei niedrigen Drücken (. < 100 Pa = 1 mbar), d. h. nichtthermische Plasmen, spielen wegen ihrer Wechselwirkungen mit Festk?rperoberfl?chen bei folgenden Beschichtungsprozessen eine Rolle: Sputtern, Ionenplattieren, aktivierte reaktive Bedampfung, plasma-ak作者: 借喻 時間: 2025-3-24 13:46
Bedampfungstechniken,fenden Atome oder Moleküle verlassen die Oberfl?che des Verdampfungsgutes und schlagen sich als Schicht auf dem Substrat und umgebenden W?nden nieder. Der Proze? findet üblicherweise im Hochvakuum bei . < 10. Pa statt. Die Teilchen fliegen dann praktisch ohne Kollisionen, also geradlinig von der Que作者: 陳腐思想 時間: 2025-3-24 16:19
Sputtertechniken,es beschossenen Materials. Dieses Zerst?uben oder Sputtern ist die Grundlage eines Vakuum-Beschichtungsprozesses. Dazu wird eine Quelle des Beschichtungsmaterials, das Target, zusammen mit den Substraten in eine Kammer gebracht, die zun?chst auf Hochvakuum evakuiert wird. Eine gebr?uchliche Methode,作者: GLEAN 時間: 2025-3-24 19:27
Ionenplattieren,ch den Begriff ?Ion Plating“ pr?gte. Nach Mattox ist das Ionenplattieren (IP) ein Vakuumbeschichtungs verfahren, bei dem die Substratoberfl?che und/oder die sich abscheidende Schicht einem Teilchenstrom hinreichend hoher Energie ausgesetzt wird, um in der übergangszone Substrat/Schicht (interface) s作者: 少量 時間: 2025-3-25 00:05
Chemische Abscheidung aus der Gasphase: CVD-Verfahren,peraturen von etwa 200...2000°C unter Zufuhr von W?rme- oder Strahlungsenergie ablaufen und dabei Festk?rperprodukte und flüchtige Nebenprodukte bilden. Die einzelnen Gaskomponenten werden zusammen mit einem inerten Tr?gergas, meist Argon, durch die Reaktorkammer geleitet, in der die Festk?rper durc作者: conception 時間: 2025-3-25 03:47
Plasma-aktivierte chemische Dampfabscheidung (PACVD),m Gas, dem durch ein Plasma, z. B. eine Niederdruck-Glimmentladung Energie zugeführt wird [9.1–9.4]. Die zur Reaktion bestimmten Gasmoleküle werden im Plasma dissoziiert, in Radikale gespalten und/oder in angeregte Zust?nde überfuhrt und reagieren daher bereits bei tieferen als den thermodynamisch e作者: 影響深遠 時間: 2025-3-25 07:32 作者: heckle 時間: 2025-3-25 12:39 作者: Adherent 時間: 2025-3-25 16:26
,Auftragschwei?en und Plattieren,ren genannt. Man gliedert diese Verfahren nach der Art der verwendeten Energiequelle, die als Flamme, Lichtbogen, Plasmastrahl oder Joulesche W?rme zur Verfügung stehen kann. Mit diesen Energiequellen werden sowohl das aufzutragende Material als auch eine dünne Oberfl?chenschicht des Werkstückes ges作者: 畏縮 時間: 2025-3-25 20:02 作者: 一再困擾 時間: 2025-3-26 02:43
978-3-540-16723-5Springer-Verlag Berlin, Heidelberg 1987作者: convert 時間: 2025-3-26 04:25 作者: 多產(chǎn)魚 時間: 2025-3-26 11:33 作者: 盟軍 時間: 2025-3-26 14:40
WFT Werkstoff-Forschung und -Technikhttp://image.papertrans.cn/o/image/700088.jpg作者: occurrence 時間: 2025-3-26 17:59 作者: Incorruptible 時間: 2025-3-26 23:21 作者: Exterior 時間: 2025-3-27 03:21 作者: narcotic 時間: 2025-3-27 08:59
Haftfestigkeit und MikroStruktur der Schichten, Vorbehandlung der Substrate,?nnen durch mechanische (Zug, Scherung), thermische (hohe und niedrige Temperaturen, auch in zyklischer Folge), chemische (Korrosion, sowohl chemisch als auch elektrochemisch) und andere Einwirkungen erzeugt werden.作者: Mindfulness 時間: 2025-3-27 11:55 作者: 運動吧 時間: 2025-3-27 14:16 作者: 過濾 時間: 2025-3-27 21:34 作者: 占線 時間: 2025-3-27 23:03
,Auftragschwei?en und Plattieren,fmischen mit dem Schichtwerkstoff unterscheidet sich das Auftragschwei?en von den thermischen Spritzverfahren, bei denen die Werkstückoberfl?che, vom Vakuum-Plasmaspritzen abgesehen, nicht wesentlich erw?rmt wird.作者: Urea508 時間: 2025-3-28 04:30 作者: idiopathic 時間: 2025-3-28 08:41 作者: conspicuous 時間: 2025-3-28 14:07
,Plasmen in der Oberfl?chentechnologie,tivierter CVD-Proze?, plasma-aktiviertes ?tzen und Plasmapolymerisation. Plasmen bei h?heren Drücken (. > 10. Pa = 0,1 bar), d.h. thermische Plasmen, werden bei thermischen Spritzverfahren und dem Auftragschwei?en als W?rmequelle eingesetzt. Darstellungen über Plasmaphysik liegen in [4.1–4.7] vor.作者: Abutment 時間: 2025-3-28 17:35 作者: 行乞 時間: 2025-3-28 20:57 作者: 使迷惑 時間: 2025-3-28 23:55 作者: Euphonious 時間: 2025-3-29 06:57
René A. Haeferchtungs-apparat einen einfachen Hohlspiegel, keine Kondensorlinse; das Objektiv bestand aus zwei Linsen. In der Folgezeit wurden keine wesentlichen Fortschritte gemacht. Aus den im Jahre 1798 von . in Paris veranstalteten, gro?es Aufsehen erregenden Geisterprojektionen entwickelten sich in England a作者: giggle 時間: 2025-3-29 09:38 作者: Disk199 時間: 2025-3-29 13:06
René A. Haeferchtungs-apparat einen einfachen Hohlspiegel, keine Kondensorlinse; das Objektiv bestand aus zwei Linsen. In der Folgezeit wurden keine wesentlichen Fortschritte gemacht. Aus den im Jahre 1798 von . in Paris veranstalteten, gro?es Aufsehen erregenden Geisterprojektionen entwickelten sich in England a作者: Mosaic 時間: 2025-3-29 19:36 作者: meretricious 時間: 2025-3-29 21:19 作者: landfill 時間: 2025-3-30 03:57 作者: Cholecystokinin 時間: 2025-3-30 07:19
René A. Haefers. If so, what exactly. If not, what is it about the ‘nature of India’ that makes it so? The consequences for human welfare involved in questions like these are simply staggering: Once one Starts to think about them, it is hard to think about anything else.“ (Lucas (1988, S. 3ff.)).作者: 安心地散步 時間: 2025-3-30 10:11
René A. Haeferausgesetzt, dass die wirtschaftliche Leistungsf?higkeit dazu ausreicht? die ethischen Voraussetzungen für das Zusammenleben verbessern sich mit der nachhaltigen Wirtschaftsentwicklung Der pessimistischen Erwartung der letzten Jahrzehnte bezüglich unserer Zukunft wird hier eine realistische Alternati作者: 乳白光 時間: 2025-3-30 13:23 作者: CRUC 時間: 2025-3-30 19:01 作者: 金桌活畫面 時間: 2025-3-31 00:07
René A. Haeferussetzungen für das Zusammenleben verbessern sich mit der nachhaltigen Wirtschaftsentwicklung Der pessimistischen Erwartung der letzten Jahrzehnte bezüglich unserer Zukunft wird hier eine realistische Alternati作者: 加劇 時間: 2025-3-31 01:57
Elektrochemische und chemische Verfahren zur Herstellung von Schichten,作者: Agnosia 時間: 2025-3-31 05:24
