標(biāo)題: Titlebook: Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr; Walter Olbrich Book 1994 Springer-Ve [打印本頁(yè)] 作者: affidavit 時(shí)間: 2025-3-21 19:33
書(shū)目名稱Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr影響因子(影響力)
書(shū)目名稱Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr影響因子(影響力)學(xué)科排名
書(shū)目名稱Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr網(wǎng)絡(luò)公開(kāi)度
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書(shū)目名稱Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr被引頻次
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書(shū)目名稱Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr年度引用
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書(shū)目名稱Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr讀者反饋
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作者: 類似思想 時(shí)間: 2025-3-21 21:08
Entwicklungsbedarf in der PVD-Technologie,er St?hle, die thermisch nur niedrig belastet werden dürfen, beschichtet werden, so ist eine wesentliche Aufgabe in der Proze?-und Schichtentwicklung die Ausführung der Beschichtung bei niederen Temperaturen (< 200°C). Daneben sind Fragen der gleichm??igen 3D-Beschichtung und des übertragens der Pro作者: conspicuous 時(shí)間: 2025-3-22 02:08
Aufgabenstellung,in einem PVD-Proze? durch einen energieerh?hten Ionenbeschu? an der Substratoberfl?che zu unterstützen. Dabei soll die Ener-gie der auftreffenden Teilchen weitgehend unabh?ngig von anderen Proze?gr??en und Proze?-parametern eingestellt werden k?nnen. Der Beschu? soll richtungsunabh?ngig und allseiti作者: 鐵塔等 時(shí)間: 2025-3-22 07:58
,Wirkungen der überlagert gepulsten Biasspannung auf die Proze?bedingungen,abh?ngig gemacht. Dieser Parame-ter E. ist direkt proportional zur durchschnittlichen Energie und zur Stromdichte der auftref-fenden Ionen bzw. zur Biasspannung U. und zur Biasstromst?rke I.:.Beschichtungsversuche mit der überlagert gepulsten Biasspannung sollen zeigen, da? die zur Ausbildung der Zo作者: 安心地散步 時(shí)間: 2025-3-22 12:30 作者: Monotonous 時(shí)間: 2025-3-22 13:59 作者: Monotonous 時(shí)間: 2025-3-22 18:28 作者: Palpitation 時(shí)間: 2025-3-22 22:01
Ausblick,Schritt zu weiteren Anwen-dungen darstellen. Es wird erwartet, da? diese Technologie insbesondere bei Metallisierungen Verbesserungen der Schichtsysteme schaffen und neue Einsatzm?glichkeiten zulassen wird. Das Verfahren wird momentan in mehreren Unternehmen erfolgreich getestet.作者: 口味 時(shí)間: 2025-3-23 05:18 作者: 拖債 時(shí)間: 2025-3-23 07:26
Entwicklung und Optimierung von Proze?komponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahr978-3-642-47892-5作者: 灌輸 時(shí)間: 2025-3-23 13:28 作者: Occlusion 時(shí)間: 2025-3-23 14:54 作者: 不透明 時(shí)間: 2025-3-23 20:12
Folgen von Obliegenheitsverletzungen,fahren lassen sich dünne Schichten im Bereich einiger Nanometer bis zu einigen Mikrometern auf vielen Werkstücken erzeugen. Durch die Beschichtung lassen sich gezielt die Eigenschaften der Werkstückober-fl?che ver?ndern. Die Oberfl?che dient bei allen Bauteilen als Schnittstelle zu ihrer Umwelt und 作者: enormous 時(shí)間: 2025-3-24 00:38 作者: 兒童 時(shí)間: 2025-3-24 04:34 作者: 淘氣 時(shí)間: 2025-3-24 07:55
Intelligenter Umgang mit Fehlern,abh?ngig gemacht. Dieser Parame-ter E. ist direkt proportional zur durchschnittlichen Energie und zur Stromdichte der auftref-fenden Ionen bzw. zur Biasspannung U. und zur Biasstromst?rke I.:.Beschichtungsversuche mit der überlagert gepulsten Biasspannung sollen zeigen, da? die zur Ausbildung der Zo作者: Banquet 時(shí)間: 2025-3-24 11:53 作者: 不規(guī)則的跳動(dòng) 時(shí)間: 2025-3-24 15:36 作者: BILE 時(shí)間: 2025-3-24 20:52
https://doi.org/10.1007/978-3-322-90029-6nen (bis 1000 eV) w?hrend des Beschichtungsprozesses dargestellt. Die aus der ionenunterstützten Abscheidung resultier renden Vorteile in den Gebrauchseigenschaften einer Beschichtung sind vielfaltig, basieren je-doch fast ausschlie?lich auf einem Verbessern der Mikrostruktur abgeschiedener Schichte作者: LUMEN 時(shí)間: 2025-3-25 03:00 作者: 感情 時(shí)間: 2025-3-25 04:07 作者: 裹住 時(shí)間: 2025-3-25 08:04 作者: 泥瓦匠 時(shí)間: 2025-3-25 13:15 作者: 喧鬧 時(shí)間: 2025-3-25 15:58
Gott würfelt nicht: Maxwells Weltieser Sachverhalt wurde und wird durch viele Forschungs- und Entwicklungsarbeiten best?tigt. Allerdings wird diese Technologie noch nicht in dem Ma?e angewendet, wie anhand der aufgezeigten M?glichkeiten zu erwarten w?re.作者: 全面 時(shí)間: 2025-3-25 23:22 作者: 反饋 時(shí)間: 2025-3-26 01:22
Bewertung der Ergebnisse,ieser Sachverhalt wurde und wird durch viele Forschungs- und Entwicklungsarbeiten best?tigt. Allerdings wird diese Technologie noch nicht in dem Ma?e angewendet, wie anhand der aufgezeigten M?glichkeiten zu erwarten w?re.作者: gentle 時(shí)間: 2025-3-26 06:19 作者: 受辱 時(shí)間: 2025-3-26 09:15 作者: REP 時(shí)間: 2025-3-26 15:48
https://doi.org/10.1007/978-3-658-01465-0Zum Erzeugen dünner Schichten werden viele unterschiedliche Verfahren angeboten. Im we-sentlichen unterscheiden sich diese Verfahren durch die Art und Weise, mit der das feste Aus-gangsmaterial in die Gasphase übergeführt wird.作者: fixed-joint 時(shí)間: 2025-3-26 19:39 作者: 廣告 時(shí)間: 2025-3-26 22:07 作者: 顛簸地移動(dòng) 時(shí)間: 2025-3-27 03:11
PVD-Verfahrenstechnologie,Zum Erzeugen dünner Schichten werden viele unterschiedliche Verfahren angeboten. Im we-sentlichen unterscheiden sich diese Verfahren durch die Art und Weise, mit der das feste Aus-gangsmaterial in die Gasphase übergeführt wird.作者: 愛(ài)哭 時(shí)間: 2025-3-27 07:44 作者: 顛簸地移動(dòng) 時(shí)間: 2025-3-27 11:22 作者: 去世 時(shí)間: 2025-3-27 15:22
Einleitung,wird folglich vielf?ltig beansprucht. Sie mu? chemischen, mechanischen oder thermischen Be-lastungen standhalten und übernimmt oft eine zus?tzliche Funktion, die dekorativ, tribologisch oder optisch wirksam ist. Diese Aufgabenfelder lassen sich in vielen F?llen mit PVD-Beschich-tungen abdecken.作者: 幻影 時(shí)間: 2025-3-27 18:11 作者: dissent 時(shí)間: 2025-3-27 22:53
Anwendungsbeispiele,sgesetzt sind, darf kein intensiver Ionenbeschu? w?hrend des Be-schichtungsprozesses stattfinden. Durch die niedrige Beschichtungstemperatur bildet sich vor allem in der Nadel?se eine Hartstoffschicht, die nur schwach belastbar ist (Bild 8.1 oben) und an einigen Stellen ohne ?u?ere Belastung abplatzt (Bild 8.2 oben).作者: BALK 時(shí)間: 2025-3-28 02:37
Zusammenfassung,seigenschaften einer Beschichtung sind vielfaltig, basieren je-doch fast ausschlie?lich auf einem Verbessern der Mikrostruktur abgeschiedener Schichten in-folge des Ionenbeschusses. Die Ursache dieser Tatsache hegt darin, da? der Ionenbeschu? die physikalischen Vorg?nge an der Oberfl?che beschleunigt oder überhaupt erst erm?glicht.作者: surrogate 時(shí)間: 2025-3-28 09:34
Folgen von Obliegenheitsverletzungen,wird folglich vielf?ltig beansprucht. Sie mu? chemischen, mechanischen oder thermischen Be-lastungen standhalten und übernimmt oft eine zus?tzliche Funktion, die dekorativ, tribologisch oder optisch wirksam ist. Diese Aufgabenfelder lassen sich in vielen F?llen mit PVD-Beschich-tungen abdecken.作者: 使成整體 時(shí)間: 2025-3-28 11:38
Sarah Alexi,Friederike Heinzel,Uta Marinize?technik auf gro?e Anlagen (up-scale) zu l?sen. Für viele tribologische Anwendungen ist ein Verschlei?schutz durch PVD-Schichten nicht ausreichend. Besonders zu beachten ist, da? viele PVD-Schichten keinen genügenden Korrosionsschutz bieten.作者: 被告 時(shí)間: 2025-3-28 17:03
https://doi.org/10.1007/978-3-658-37755-7sgesetzt sind, darf kein intensiver Ionenbeschu? w?hrend des Be-schichtungsprozesses stattfinden. Durch die niedrige Beschichtungstemperatur bildet sich vor allem in der Nadel?se eine Hartstoffschicht, die nur schwach belastbar ist (Bild 8.1 oben) und an einigen Stellen ohne ?u?ere Belastung abplatzt (Bild 8.2 oben).作者: 脊椎動(dòng)物 時(shí)間: 2025-3-28 21:23 作者: MIR 時(shí)間: 2025-3-29 00:15
Intelligenter Umgang mit Fehlern,iereichen Teilchen die erwünschten Effekte bei der Schichtbildung genauso erzielt. Ein Vorteil davon ist, da? nicht so viel Energie in den Proze? eingebracht wird, wie bei einem andauernden energiereichen Ionen-beschu?, und somit auch keine so starke Erw?rmung der Substrate stattfinden kann.作者: notification 時(shí)間: 2025-3-29 06:40
,Wirkungen der überlagert gepulsten Biasspannung auf die Proze?bedingungen,iereichen Teilchen die erwünschten Effekte bei der Schichtbildung genauso erzielt. Ein Vorteil davon ist, da? nicht so viel Energie in den Proze? eingebracht wird, wie bei einem andauernden energiereichen Ionen-beschu?, und somit auch keine so starke Erw?rmung der Substrate stattfinden kann.作者: 放縱 時(shí)間: 2025-3-29 07:25
Garik Gutmanrequirements through learner-driven knowledge creation, collaboration, networking, and digital literacies. It opens new scenarios of how to apply digital storytelling and games connecting fun, motivation, and learning. The st978-94-6209-749-0作者: Emasculate 時(shí)間: 2025-3-29 15:08
Persistence of Gender Discrimination in the Workplace,mpared with members of the other gender. Discrimination in the workplace is of course not limited to gender. It can happen on a variety of other grounds such as race, ethnicity, religion or belief, age, sexual orientation, beauty or weight, some of which are outlawed, some are not. While discriminat作者: 吊胃口 時(shí)間: 2025-3-29 17:58 作者: 盡忠 時(shí)間: 2025-3-29 23:34
