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標題: Titlebook: Elektronenmikroskopische Untersuchungs- und Pr?parationsmethoden; Ludwig Reimer Book 19591st edition Springer-Verlag Berlin Heidelberg 195 [打印本頁]

作者: Lincoln    時間: 2025-3-21 17:52
書目名稱Elektronenmikroskopische Untersuchungs- und Pr?parationsmethoden影響因子(影響力)




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書目名稱Elektronenmikroskopische Untersuchungs- und Pr?parationsmethoden被引頻次




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書目名稱Elektronenmikroskopische Untersuchungs- und Pr?parationsmethoden年度引用




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作者: Console    時間: 2025-3-21 22:41

作者: evanescent    時間: 2025-3-22 02:56

作者: 品嘗你的人    時間: 2025-3-22 08:10
Stereoabbildungenelativ gro?en Tiefensch?rfe bei der elektronenmikroskopischen Abbildung, die bei gleicher Endvergr??erung diejenige bei lichtoptischen Abbildungen um 2–3 Zehnerpotenzen überragt. Zu einer Absch?tzung der Tiefensch?rfe gelangt man durch eine einfache geometrische Betrachtung (. und . 1939). Eine axia
作者: Armada    時間: 2025-3-22 10:23
Entstehung des Bildkontrastesoll die Entstehung des Bildkontrastes in diesem Kapitel n?her behandelt werden, wobei Wert darauf gelegt wird, die von der theoretischen Physik gewonnenen Ergebnisse in m?glichst kurzer, aber anschaulicher Form darzulegen. Naturgem?? kann dabei nicht v?llig auf die Wiedergabe von Formeln verzichtet
作者: 入會    時間: 2025-3-22 16:35
Elektronenbeugunggewinnen. Mit den vielseitigen optischen M?glichkeiten (Feinstrahlbeugung, Feinbereichsbeugung u. a.) ist ein Elektronenmikroskop in vielen Punkten bei geeigneter Linsenerregung einer reinen Elektronenbeugungsanlage überlegen. Die Hauptanwendung der Elektronenbeugung in Zusammenhang mit elektronenmi
作者: 入會    時間: 2025-3-22 18:22

作者: 極端的正確性    時間: 2025-3-23 01:00

作者: 血友病    時間: 2025-3-23 04:23
Bildaufzeichnung und Intensit?tsmessungen/CdS (geringer Zusatz von CdS) bestehen. Durch Zusatz kleiner Verunreinigungen (z. B. Cu), die im Leuchtstoff atomar gel?st werden, kann man die Farbe der Luminescenz ver?ndern, und w?hlt sie am zweckm??igsten so, da? die Hauptintensit?t in der spektralen Helligkeitsverteilung mit dem Maximum der Au
作者: 通情達理    時間: 2025-3-23 06:39
Objektblenden und Tr?gernetzel nicht gr??er als 0,1 mm w?hlen, da sonst die Schichten bereits w?hrend der Pr?paration oder zumindestens bei der Bestrahlung mit Elektronen zerrei?en. Es empfiehlt sich sogar mit dem Durchmesser weiter herunterzugehen, sobald es das spezielle Objekt erlaubt. Dann ist die Erw?rmung durch Elektronen
作者: 愛好    時間: 2025-3-23 10:55

作者: 附錄    時間: 2025-3-23 15:35

作者: 樹膠    時間: 2025-3-23 18:12
Schr?gbeschattungische Pr?parationstechnik eingeführt. Auf die M?glichkeit einer Vor- und Nachbeschattung der Abdrücke (Filme oder Matrizen) wurde bereits in § 13 hingewiesen. Es sei noch einmal bemerkt, da? der Vorbeschattung wenn m?glich der Vorzug zu geben ist, damit durch eine Nachbeschattung keine Artefakte dur
作者: PAD416    時間: 2025-3-23 23:22

作者: 絕緣    時間: 2025-3-24 05:49
Herstellung durchstrahlbarer Metallfolienen in reinen Metallen oder Legierungen sichtbar zu machen, ist für einen Oberfl?chenabdruck eine Reliefbildung durch ein geeignetes Atzverfahren erforderlich. Bei den Abdrücken geht ferner auch die M?glichkeit verloren, die Kristallstruktur der Metalle zu untersuchen. Es besteht zwar die M?glichkeit
作者: 妨礙議事    時間: 2025-3-24 09:51
Anorganische disperse Systemeim Lichtmikroskop Teilchengr??en von 1 . nur mit einer Genauigkeit von 40% vermessen werden k?nnen, aber sehr viele pulverf?rmige Substanzen Korngr??en dieser Gr??enordnung und kleiner besitzen. Es sind daher viele nichtelektronenmikroskopische Verfahren entwickelt worden, um auf indirektem Wege Aus
作者: interior    時間: 2025-3-24 14:35

作者: 參考書目    時間: 2025-3-24 16:25

作者: 托運    時間: 2025-3-24 21:11

作者: FICE    時間: 2025-3-25 03:11
,Substanzmissbrauch und Drogenüberdosis,Pr?paratdicken von 50—1000 ? durchstrahlt werden k?nnen. Deshalb ist es nicht m?glich, mit diesen Ger?ten Oberfl?chen von kompaktem Material direkt elektronenoptisch abzubilden. Dies gelingt nur über den Umweg eines Oberfl?chenabdruckes (§ 13). Für viele Zwecke besteht das Interesse, diesen Abdruck
作者: Noisome    時間: 2025-3-25 06:14
https://doi.org/10.1007/978-3-642-66968-2usw.) ist eine Eichung der Vergr??erung unerl??lich. Die Schwierigkeit besteht darin, da? man gew?hnlich an lichtoptisch oder interferometrisch vermessene Objekte anschlie?t (Abmessungen der Gr??enordnung,. Bei den h?chsten Vergr??erungen bis zu 100000fach werden diese im Endbild gr??er als der Bild
作者: 緩解    時間: 2025-3-25 11:13

作者: 警告    時間: 2025-3-25 12:09
Verwaltungsnachrichten für das Jahr 1891/92oll die Entstehung des Bildkontrastes in diesem Kapitel n?her behandelt werden, wobei Wert darauf gelegt wird, die von der theoretischen Physik gewonnenen Ergebnisse in m?glichst kurzer, aber anschaulicher Form darzulegen. Naturgem?? kann dabei nicht v?llig auf die Wiedergabe von Formeln verzichtet
作者: wangle    時間: 2025-3-25 19:42

作者: 使激動    時間: 2025-3-25 21:59
https://doi.org/10.1007/978-3-7091-8918-4r die Interferenzerscheinungen in Kristallen hinaus einen unmittelbaren Beweis der Wellennatur von Elektronenstrahlen. Au?er diesem rein theoretischen Interesse haben diese Beugungserscheinungen aber auch beim praktischen Arbeiten für die Scharfstellung des Bildes gro?e Bedeutung. Die beste Scharfst
作者: Unsaturated-Fat    時間: 2025-3-26 02:47
https://doi.org/10.1007/978-3-476-05355-8ingungsenergie und damit einer Erw?rmung des Pr?parates umgesetzt. Dies kann unter Umst?nden zu sehr hohen Temperaturen des Objekts führen. Dadurch k?nnen bleibende Pr?paratver?nderungen hervorgerufen werden, welche die Ausdeutung elektronenmikroskopischer Bilder erschweren und es sogar unm?glich ma
作者: 品嘗你的人    時間: 2025-3-26 05:57

作者: 甜得發(fā)膩    時間: 2025-3-26 11:07
https://doi.org/10.1007/978-3-642-94269-3l nicht gr??er als 0,1 mm w?hlen, da sonst die Schichten bereits w?hrend der Pr?paration oder zumindestens bei der Bestrahlung mit Elektronen zerrei?en. Es empfiehlt sich sogar mit dem Durchmesser weiter herunterzugehen, sobald es das spezielle Objekt erlaubt. Dann ist die Erw?rmung durch Elektronen
作者: Aerophagia    時間: 2025-3-26 15:19

作者: Assemble    時間: 2025-3-26 19:34

作者: bypass    時間: 2025-3-27 00:06
https://doi.org/10.1007/978-3-8274-2649-9ische Pr?parationstechnik eingeführt. Auf die M?glichkeit einer Vor- und Nachbeschattung der Abdrücke (Filme oder Matrizen) wurde bereits in § 13 hingewiesen. Es sei noch einmal bemerkt, da? der Vorbeschattung wenn m?glich der Vorzug zu geben ist, damit durch eine Nachbeschattung keine Artefakte dur
作者: Predigest    時間: 2025-3-27 04:14
https://doi.org/10.1007/978-3-662-50280-8 mit einigen Pr?paraten von verschiedenen Stellen einen Eindruck von der Oberfl?chenstruktur gewinnt. In vielen F?llen interessieren aber bestimmte Strukturen, die bei der gew?hnlichen Technik nur zuf?llig in den ?ffnungen der Objektblenden sichtbar sind, oder man will von derselben Stelle nach vers
作者: intangibility    時間: 2025-3-27 08:50
https://doi.org/10.1007/978-3-662-61103-6en in reinen Metallen oder Legierungen sichtbar zu machen, ist für einen Oberfl?chenabdruck eine Reliefbildung durch ein geeignetes Atzverfahren erforderlich. Bei den Abdrücken geht ferner auch die M?glichkeit verloren, die Kristallstruktur der Metalle zu untersuchen. Es besteht zwar die M?glichkeit
作者: palette    時間: 2025-3-27 10:53
Ziele setzen und Tr?ume verfolgenim Lichtmikroskop Teilchengr??en von 1 . nur mit einer Genauigkeit von 40% vermessen werden k?nnen, aber sehr viele pulverf?rmige Substanzen Korngr??en dieser Gr??enordnung und kleiner besitzen. Es sind daher viele nichtelektronenmikroskopische Verfahren entwickelt worden, um auf indirektem Wege Aus
作者: SLUMP    時間: 2025-3-27 14:09
Knappe Kapazit?ten in der Losgr??enplanung oder von denen Oberfl?chenabdrücke angefertigt werden k?nnen. Die organischen Objekte verlangen zum Teil eine etwas andere Pr?parationstechnik als die im vorhergehenden Paragraphen behandelten anorganischen dispersen Systeme. Einige Pr?parationsverfahren sind durch die Dünnschnitt-Technik (§ 19–21)
作者: 擺動    時間: 2025-3-27 19:09
Hans Kellerer,Ulrich Pferschy,David Pisingerenmikroskop unter Vakuum nur entw?sserte Gewebe untersucht werden und es treten ferner nach der Entnahme von Gewebeproben postmortale Ver?nderungen durch Cytolyse auf, die durch Fixation unterbunden werden k?nnen.
作者: indubitable    時間: 2025-3-27 22:15
,Einführung und historischer überblick,?ger vorher mit einem dünnen (50–200 ?) Tr?gerfilm überziehen. Selbst wenn man z. B. gro?fl?chige Mikrotomschnitte untersucht, sind diese ohne Tr?gerfilm sehr empfindlich gegen Elektronenbeschu?. Andererseits lassen sich bei der Untersuchung von Aufdampfschichten jeglicher Art diese Filme direkt als Schichtunterlage verwenden.
作者: 和平    時間: 2025-3-28 03:43

作者: Pituitary-Gland    時間: 2025-3-28 09:18
Herstellung und Eigenschaften von Tr?gerfolien?ger vorher mit einem dünnen (50–200 ?) Tr?gerfilm überziehen. Selbst wenn man z. B. gro?fl?chige Mikrotomschnitte untersucht, sind diese ohne Tr?gerfilm sehr empfindlich gegen Elektronenbeschu?. Andererseits lassen sich bei der Untersuchung von Aufdampfschichten jeglicher Art diese Filme direkt als Schichtunterlage verwenden.
作者: 自負的人    時間: 2025-3-28 13:10

作者: 小步走路    時間: 2025-3-28 17:14
http://image.papertrans.cn/e/image/306997.jpg
作者: geometrician    時間: 2025-3-28 19:06

作者: exquisite    時間: 2025-3-28 23:30

作者: 陪審團    時間: 2025-3-29 06:29

作者: Presbyopia    時間: 2025-3-29 08:40
Grundlagen der Hochvakuum- und AufdampftechnikFür die elektronenmikroskopische Pr?parationstechnik — bei der Herstellung von Tr?gerfolien und Schr?gbeschattungen — spielt die Aufdampfmethode eine gro?e Rolle. Es soll daher in diesem Paragraph der prinzipielle Aufbau von Verdampfungsapparaturen beschrieben und insbesondere auf die Wahl geeigneter Verdampfungsquellen eingegangen werden.
作者: Canary    時間: 2025-3-29 14:15

作者: dry-eye    時間: 2025-3-29 16:27
Elektronenmikroskopische Untersuchungs- und Pr?parationsmethoden978-3-662-01452-3
作者: glomeruli    時間: 2025-3-29 21:44
Verwaltungsnachrichten für das Jahr 1891/92ine quantitative Auswertung elektronenmikroskopischer Bilder erforderlich sind. Bei all diesen Betrachtungen wird stets vorausgesetzt, da? sich die Ausdehnungen der Objekteinzelheiten mit gleicher Dicke und physikalischen Eigenschaften über gr??ere Bereiche im Vergleich zum Aufl?sungsverm?gen erstre
作者: 極少    時間: 2025-3-30 01:43

作者: HOWL    時間: 2025-3-30 05:15
https://doi.org/10.1007/978-3-476-99339-7nd, verwendet man oft weniger gegen Strahlensch?den empfindliche ZnO-Leuchtschirme, die eine um einen Faktor 10 geringere Lichtausbeute besitzen. Dies ist aber wiederum für den Verwendungszweck als Zwischenleuchtschirm zu begrü?en, damit das Zwischenbild nicht überstrahlt wird.
作者: Hyperopia    時間: 2025-3-30 11:06

作者: 貪婪性    時間: 2025-3-30 14:04
Entstehung des Bildkontrastesine quantitative Auswertung elektronenmikroskopischer Bilder erforderlich sind. Bei all diesen Betrachtungen wird stets vorausgesetzt, da? sich die Ausdehnungen der Objekteinzelheiten mit gleicher Dicke und physikalischen Eigenschaften über gr??ere Bereiche im Vergleich zum Aufl?sungsverm?gen erstre
作者: poliosis    時間: 2025-3-30 16:37

作者: Insulin    時間: 2025-3-30 21:18
Bildaufzeichnung und Intensit?tsmessungennd, verwendet man oft weniger gegen Strahlensch?den empfindliche ZnO-Leuchtschirme, die eine um einen Faktor 10 geringere Lichtausbeute besitzen. Dies ist aber wiederum für den Verwendungszweck als Zwischenleuchtschirm zu begrü?en, damit das Zwischenbild nicht überstrahlt wird.
作者: 小卷發(fā)    時間: 2025-3-31 02:23
Herstellung durchstrahlbarer Metallfoliend die Kristallitgr??en und physikalischen Eigenschaften von Aufdampfschichten wesentlich von denjenigen des kompakten Materials verschieden. Deshalb sollen hier nur solche Verfahren aufgeführt werden, bei denen die Schichtherstellung vom kompakten Material ausgeht.
作者: Immunization    時間: 2025-3-31 05:53
Book 19591st editionDiamantmessern zu schneiden oder organische Objekte als Erg?nzung mit elektronenmikroskopischen Ober- fl?chenabdrücken zu untersuchen. Das Buch soll deshalb eine allgemeine Einführung in die wichtigsten Pr?parationsverfahren geben. Dabei wird auch vor allem das Artefakt- problem an zahlreichen Beisp
作者: 一致性    時間: 2025-3-31 11:30
n und mit Diamantmessern zu schneiden oder organische Objekte als Erg?nzung mit elektronenmikroskopischen Ober- fl?chenabdrücken zu untersuchen. Das Buch soll deshalb eine allgemeine Einführung in die wichtigsten Pr?parationsverfahren geben. Dabei wird auch vor allem das Artefakt- problem an zahlreichen Beisp978-3-662-01452-3




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